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Kurzbeschreibung

Das Projekt Absaugüberwachung wird in Zusammenarbeit mit der Abteilung "Lithografie" der Firma Infineon und dessen Wafer-Belackungs-Anlagen gestaltetPPlatine.


Hintergrundinformationen zum Thema Lithografie/Belacken:

In der Lithografie wird mittels Belackung, Belichtung und Entwicklung eine Struktur auf der Waferoberfläche erzeugt. Diese Struktur dient in weiteren Prozessschritten als Ätz- bzw. Implantationsmaske.

Der Wafer wird in der Prozesskammer mit einem Lösungsmittel benetzt, daLackauftragnach wird der lichtempfindliche Fotolack mit hoher Drehzahl aufgetragen. Um eine gleichmäßige Schicht zu erzielen, wird der Wafer mit bis zu 3000 Umdrehungen/min rotiert.

Der letzte Schritt ist das Verdampfen des Lösungsmittels bzw. die Trocknung des Lacks auf den Heizplatten.

Beim Vorgang des Ausheizens entstehen Dämpfe, die kondensieren und sich somit an Wänden der Hotplate und dem Absaugrohr ablagern.
Die derzeitige Situation ist, dass die Ablagerungen erst bei Geruchsbildung gereinigt werden, welches zu massiven Problemen, wie Produktionsausfällen und Stillstand der Anlage führt. Um dies zu verhindern wird in die bestehende Absauganlage eine Überwachung nachträglich eingebaut.

Zielsetzung und Ergebnis

Mit der zu entwickelnden Überwachung soll der Ausfall der Absaugung automatisch erkannt und bei Unter- bzw. Überschreiten eines Grenzwertes ein akustischer Alarm ausgegeben werden. Zusätzlich wird mit einer Statusanzeige die aktuellen Werte der einzelnen Differenzdrucksensoren der jeweiligen Ausheizkammern ausgegeben.
Um jeden Sensor individuell einzustellen, sollen mittels einer einfachen Menüführung die Grenzwerte einstellbar sein.