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Das Projekt Absaugüberwachung wird in Zusammenarbeit mit der Abteilung "Lithografie" der Firma Infineon und dessen Wafer-Belackungs-Anlagen gestaltetPPlatine.
Hintergrundinformationen
zum Thema Lithografie/Belacken:
In der Lithografie wird mittels Belackung, Belichtung und Entwicklung eine Struktur auf der Waferoberfläche erzeugt. Diese Struktur dient in weiteren Prozessschritten als Ätz- bzw. Implantationsmaske.
Der Wafer wird in der Prozesskammer mit einem Lösungsmittel benetzt, danach wird der lichtempfindliche Fotolack mit hoher Drehzahl aufgetragen. Um eine gleichmäßige Schicht zu erzielen, wird der Wafer mit bis zu 3000 Umdrehungen/min rotiert.
Der letzte Schritt ist das Verdampfen des Lösungsmittels bzw. die Trocknung des Lacks auf den Heizplatten.
Beim Vorgang des
Ausheizens entstehen Dämpfe, die kondensieren und sich somit an Wänden
der
Hotplate und dem Absaugrohr ablagern.
Die derzeitige Situation ist, dass die Ablagerungen erst bei
Geruchsbildung gereinigt werden, welches zu massiven Problemen, wie
Produktionsausfällen und Stillstand der Anlage führt. Um dies zu
verhindern
wird in die bestehende Absauganlage eine Überwachung nachträglich
eingebaut.
Zielsetzung und Ergebnis
Mit
der zu entwickelnden Überwachung soll der
Ausfall der Absaugung automatisch erkannt und bei Unter- bzw.
Überschreiten eines Grenzwertes ein akustischer
Alarm
ausgegeben werden. Zusätzlich wird mit einer Statusanzeige die
aktuellen Werte der einzelnen Differenzdrucksensoren der jeweiligen
Ausheizkammern ausgegeben.
Um jeden Sensor individuell einzustellen,
sollen mittels einer einfachen Menüführung die Grenzwerte einstellbar
sein.